在光学元件制造领域，表面镀膜技术直接决定产品的透光性、耐久性和功能性。真空镀膜与化学镀膜作为两大主流工艺，常令企业在技术选型时陷入困惑。本文由鼎宏润科技基于国际标准与行业实践，从技术原理、性能指标、适用场景三个维度展开分析，帮助用户精准匹配需求。 一、技术原理：物理沉积与化学反应的博弈 1. 真空镀膜（物理气相沉积，PVD）真空镀膜的核心在于物理过程：在真空环境中，通过蒸发、溅射或离子轰击等方式，将靶材材料转化为气态原子并沉积于基材表面。例如，溅射镀膜利用氩离子轰击靶材，使原子脱离并均匀覆盖基材…

金属化层的附着力是电子制造和材料加工中至关重要的质量指标之一。金属化层常用于电路板、半导体器件、显示器等多个领域，它直接影响到器件的性能和使用寿命。在现代电子制造中，为确保产品质量，必须对金属化层的附着力进行严格检测。为此，国际上有多项标准用于规定金属化层附着力的测试方法，以保障产品的可靠性和稳定性。 在本文中，鼎宏润科技将深入探讨五种国际标准，它们是目前金属化层附着力检测的主要参考依据。 1. ISO 4624: 2002 – 涂层附着力测试 ISO 4624标准是国际上常用的涂层…

在新能源汽车市场竞争日益激烈的今天，小米SU7 Ultra凭借其独特的“金车标”设计引发热议。雷军公开表示，这一车标采用了24K镀金工艺，将奢华感与科技属性巧妙融合。本文将鼎宏润（深圳）科技有限公司工程师带你从材料选择、工艺技术及设计理念三个维度，深入解析这一标志性设计的加工工艺。 一、基底材料：碳纤维的科技底色 作为车标的底层结构，小米选择了碳纤维这一高性能材料。碳纤维具有轻量化、高强度、耐腐蚀等特性，但其表面光滑且导电性较差，直接镀金存在附着力不足的问题。为此，小米工程师对碳纤维进行了多道预…

AR眼镜的光学玻璃加工技术主要涉及高精度、微型化的制造工艺，以满足轻薄化与光学性能需求。今天就由鼎宏润科技带你一起了解这些关键加工技术： 1. 精密模压成型（Precision Glass Molding） 2. 纳米级光刻与蚀刻 3. 超精密抛光（Ultra-Precision Polishing） 4. 镀膜技术 5. 晶圆级加工（Wafer-Level Optics） 6. 激光直写与微结构加工 7. 玻璃焊接与封装 核…

离子束辅助沉积（Ion Assisted Deposition, IAD）是在镀膜过程中将常规的电子束蒸发技术与离子体电弧技术相结合，它是目前镀制优质光学薄膜的主要方法之一。离子辅助镀膜技术是改善薄膜特性的重要手段，由源提供的高能离子与薄膜沉积分子碰撞后，将动能传递给薄膜分子，使得沉积分子具有很高的迁移率，从而改变薄膜的各种特性。如薄膜的致密度、附着力、应力、牢固度、折射率和吸收等。 离子源对薄膜特性的改变效果，不仅与基板种类、机器结构以及薄膜的制备工艺有关，而且与离子源的种类有关。 依据工作原…

在智能穿戴设备高速发展的今天，AR眼镜正成为连接虚拟与现实的核心载体。而决定其用户体验的关键技术之一，正是看似微小却蕴含尖端科技的玻璃镀膜技术。这项技术不仅关乎清晰度与舒适性，更直接影响AR眼镜的轻量化、续航能力和场景适配性。本文将鼎宏润科技带您深入解析其核心原理与创新突破，揭示它如何推动AR产业迈向新高度。 一、技术内核：从”被动透光”到”主动控光” 传统眼镜玻璃仅满足基础光学需求，而AR眼镜的镀膜技术需实现光线精准调控。目前主流技术包含两大方向…

随着增强现实（AR）技术的飞速发展，AR眼镜成为越来越多人关注的焦点。AR眼镜不仅为我们提供了沉浸式的虚拟体验，还将在多个领域中带来革命性的改变。从教育、医疗到工业生产，AR眼镜的应用前景非常广泛。而在AR眼镜的设计与制造过程中，玻璃镀膜技术的作用则显得尤为重要。 玻璃镀膜技术的重要性 AR眼镜的核心功能之一就是能够展示虚拟信息与现实场景的融合。这种功能的实现依赖于眼镜显示屏的清晰度和可视角度。然而，普通玻璃的反射和光线干扰常常影响显示效果，导致视觉体验差，甚至出现眼部疲劳等问题。因此，玻璃镀膜…

离子镀膜是蒸发镀膜和溅射镀膜两种技术结合而发展起来的一类新镀膜工艺。 离子镀膜有以下特点: (1)膜层附着力强 高能离子轰击有以下几个方面的作用: ①高能离子轰击对基片表面有清洗作用,可除去其污染层,同时会产生高温。 ②与喷丸表面处理效果类似,高能离子轰击可以使基片表面粗糙化,有利于成膜及膜层与基片结合。 ③在镀膜初期,当膜层尚未全部覆盖基片时,部分基片原子或分子受到高能离子轰击被溅射出去并被电离,其中部分又返回基片与镀料原子或分子共混形成膜层。这样可以减小由于膜层与基片之间热膨胀系数的不同而产…

溅射镀膜是指经电场加速的溅射粒子轰击作为阴极的镀料表面(称为靶材),通过动量转换,将靶材中的原子或分子击出镀料表面(称为溅射),然后这些被溅射出来的原子或分子(称为沉积粒子),携带着从靶材中击出时的能量沉积在作为阳极的基片表面形成薄膜。由于离子易于通过电场加速获得所需动能,因此主要采用离子作为溅射粒子。溅射离子可以是由特制的离子源产生的离子束(如离子束溅射镀膜),更多的是利用气体的放电电离产生的离子束(如真空室中惰性气体(如,Ar)电离产生的离子束)。与蒸发镀膜相比,二者的本质差异在于：蒸发镀膜…

激光加热蒸发镀膜是利用激光照射镀料表面,镀料吸收激光光子能量转化为热能,并气化蒸发的方法。不同镀料吸收激光的波长不同,可根据镀料选用不同波段的激光照射。 激光加热蒸发镀膜的主要特点是激光能量高度集中,可使镀料(甚至极难熔材料)在极短时间内气化为具有高度化学活性的等离子体,适用于加热高熔点金属和化合物材料;采用非接触加热,蒸发源置于真空室外,既减少了污染,又简化了真空室,非常适合在高真空下准备高纯度薄膜,而且镀料的蒸发速率很高。缺点是费用比较高。 激光加热蒸发镀膜可用于多层电介质膜的镀制，如ZrO…