什么是光学溅射镀膜？与蒸发镀膜有什么区别？

溅射镀膜是指经电场加速的溅射粒子轰击作为阴极的镀料表面(称为靶材),通过动量转换,将靶材中的原子或分子击出镀料表面(称为溅射),然后这些被溅射出来的原子或分子(称为沉积粒子),携带着从靶材中击出时的能量沉积在作为阳极的基片表面形成薄膜。由于离子易于通过电场加速获得所需动能,因此主要采用离子作为溅射粒子。溅射离子可以是由特制的离子源产生的离子束(如离子束溅射镀膜),更多的是利用气体的放电电离产生的离子束(如真空室中惰性气体(如,Ar)电离产生的离子束)。
与蒸发镀膜相比,二者的本质差异在于：蒸发镀膜是依靠热作用使镀料的原子或分子进入气相,这些原子或分子的平均能量仅为0.2eV左右;而溅射镀膜是依靠动量交换作用使固体材料(镀料)的原子或分子进入气相,沉积粒子的平均能量在10eV左右,甚至更高。正是由于沉积粒子具有较高的能量,不仅有利于提高膜层与基片的附着力,而且沉积粒子在基片表面的迁移率也较大,易于形成致密、均匀的薄膜。