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光学镀膜工艺之化学气相沉积(CVD)技术

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光学镀膜工艺之化学气相沉积(CVD)技术

化学气相沉积是通过化学反应的方式,利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源,在反应器内使气态或蒸气状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。

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