• 什么是光学溅射镀膜?与蒸发镀膜有什么区别?

    溅射镀膜是指经电场加速的溅射粒子轰击作为阴极的镀料表面(称为靶材),通过动量转换,将靶材中的原子或分子击出镀料表面(称为溅射),然后这些被溅射出来的原子或分子(称为沉积粒子),携带着从靶材中击出时的能量沉积在作为阳极的基片表面形成薄膜。由于离子易于通过电场加速获得所需动能,因此主要采用离子作为溅射粒子。溅射离子可以是由特制的离子源产生的离子束(如离子束溅射镀膜),更多的是利用气体的放电电离产生的离子束(如真空室中惰性气体(如,Ar)电离产生的离子束)。与蒸发镀膜相比,二者的本质差异在于:蒸发镀膜…

    行业资讯 2025 年 3 月 25 日
  • 光学镀膜工艺之激光加热蒸发镀膜

    激光加热蒸发镀膜是利用激光照射镀料表面,镀料吸收激光光子能量转化为热能,并气化蒸发的方法。不同镀料吸收激光的波长不同,可根据镀料选用不同波段的激光照射。 激光加热蒸发镀膜的主要特点是激光能量高度集中,可使镀料(甚至极难熔材料)在极短时间内气化为具有高度化学活性的等离子体,适用于加热高熔点金属和化合物材料;采用非接触加热,蒸发源置于真空室外,既减少了污染,又简化了真空室,非常适合在高真空下准备高纯度薄膜,而且镀料的蒸发速率很高。缺点是费用比较高。 激光加热蒸发镀膜可用于多层电介质膜的镀制,如ZrO…

    行业资讯 2025 年 3 月 24 日
  • 光学镀膜工艺之高频感应加热蒸发镀膜

    高频感应加热蒸发镀膜是利用高频电磁场在导电的镀料中感应产生的涡流来直接加热镀料。通常是将镀料置于绝缘的坩埚内,外侧用水冷铜管绕成的高频线圈进行加热,通过调节高频电流的大小来改变加热功率,高频电流的频率根据镀料的不同在10~100kHz之间变化。 高频感应加热蒸发镀膜的主要特点是可以采用较大的坩埚,一次存放大量的镀料,蒸发效率较高,可以连续和较大规模镀膜。由于涡流直接作用于镀料上,坩埚温度较低,因此坩埚材料对膜层的污染很小,可以制备高纯度薄膜。 该方法也可以将不导电的镀料置于导电的坩埚内间接加热。

    行业资讯 2025 年 3 月 24 日
  • 光学镀膜工艺之反应蒸发镀膜

    反应蒸发镀膜是在加热蒸发镀料的同时,向真空室充氧气(或氧离子),气相镀料在受热的基片表面与氧发生化学反应生成所需要的高价氧化物膜。反应蒸发镀膜的原理是当金属氧化物受热蒸发时,分解为低价氧化物和金属分子,蒸发物气化分子在基片表面沉积,在成膜过程中受到氧分子(或氧离子)的作用,生成高价氧化物。显然,沉积过程越缓慢,基片温度越高,氧化过程也越充分。用充氧反应蒸发镀膜可蒸镀氧化铋(Bi2O3)二氧化硅(SiO2)二氧化钛(TiO2)氧化铅(SnO2)、二氧化锆(ZrO2)、三氧化二铝(AL2O3)三氧化…

    行业资讯 2025 年 3 月 23 日
  • 光学镀膜工艺之电子束加热蒸发镀膜

    电子東加热蒸发镀膜是利用高能的电子東轰击镀料表面,将电子束的能量转化为镀料的热能,使其蒸发,并输送到基片上沉积、凝聚形成膜层。 电子東加热蒸发镀膜的原理是:将灯丝加热至炽热状态后产生热电子发射,并在高压电场和磁场下被加速并聚集,形成密集的电子流(称为电子束)轰击镀料表面,使镀料表面局部迅速产生高温(可达3000~4000℃)而气化,因此适用于加热高熔点金属和化合物材料。此外,镀料通常装在水冷铜坩埚内,只有被电子東轰击的部位局部气化,不存在坩埚污染问题,因此可以得到比电阻加热蒸镀法更为纯净的膜层。…

    行业资讯 2025 年 3 月 23 日
  • 光学镀膜工艺之电阻加热蒸发镀膜

    电阻加热蒸发镀膜的原理是:将高熔点金属(如钨、钼、钽等,有时也用石墨、铬等)制成适当形状(如丝状、带状、板状等)作为蒸发源,通以低电压、大电流,让蒸发源对镀料直接加热,或者把镀料放入高温陶瓷坩埚中对其间接加热,使镀料气化蒸发,并输送到基片上沉积凝聚形成膜层。 由于蒸发源是作为一种热源,通过热传导及热辐射对镀料加热,因此蒸发源的温度必须大于镀料的蒸发温度。蒸发源材料采用高熔点金属,其熔点要显著高于镀料材料的熔点,而且在高温下应有较好的热稳定性,不与膜料反应。电阻加热蒸发镀膜的设备简单,操作方便,易…

    行业资讯 2025 年 3 月 22 日
  • 光学镀膜工艺之溶液成膜法

    溶液成膜法是在溶液中,经过化学反应在基片表面成膜的方法,包括化学镀膜、电化学镀膜及溶胶-凝胶法(SG法)镀膜。

    行业资讯 2025 年 3 月 22 日
  • 光学镀膜工艺之化学气相沉积(CVD)技术

    化学气相沉积是通过化学反应的方式,利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源,在反应器内使气态或蒸气状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。

    行业资讯 2025 年 3 月 22 日
  • 光学镀膜工艺之物理气相沉积(PVD)技术

    物理气相沉积(PVD)技术的沉积物直接来自源材料(称为镀料)。它有三个基本过程:气相镀料的产生、气相镀料的输送和气相镀料的沉积。(1)气相镀料的产生气相镀料的产生有两类方式:① 蒸发镀膜镀料受热蒸发成为气相镀料,称为蒸发镀膜,简称蒸镀,②溅射镀膜用具有较高能量的粒子轰击镀料靶,将镀料靶上的镀料原子击出,成为气相镀料,称为溅射镀膜。(2)气相镀料的输送气相镀料的输送必须在小于1.33×10-Pa的真空中进行,其目的是:①减少气相镀料在飞向欲镀膜光学零件(称为基片)的过程中与其他气体分子间…

    行业资讯 2025 年 3 月 22 日
  • 光学零件检验的内容有哪些?

    光学零件的检验,通常包括线性尺寸、表面疵病、面形精度、角度误差、表面粗糙度以及像质、焦距等项内容,有时还要检验光学零件的反射率和透过率,具体检验项目根据光学零件精度要求而定。光学零件的线性尺寸包括:透镜的内、外径和中心厚度,棱镜的理论高度等;表面疵病包括麻点、擦痕、裂痕、破点、破边、开口气泡以及表面黏附物、霉雾等印迹等。 光学零件的面形精度包括:平面零件(平面镜、棱镜)的平面度、球面零件(球面透镜和球面反射镜)的球面度,一般利用光的干涉原理,通过观察干涉条纹的数量、形状、颜色及弯曲方向等的差异,…

    行业资讯 2025 年 3 月 21 日