技术规格
| 制程 | 能力及精度 | |
| 光刻胶涂布 | 旋涂 | 胶厚精度≤3%（适用于平面） |
| 光刻胶涂布 | 喷涂 | 胶厚精度≤10%（适用于平面/凹凸面） |
| 光刻 | 精度 2um套准精度：0.15um | |
| 显影 | 精度2um显影均匀性<5% | |
| 蚀刻 | 尺寸散差 ±1um | |
| 制程 | 能力及精度 | |
| 光刻胶涂布 | 旋涂 | 胶厚精度≤3%（适用于平面） |
| 光刻胶涂布 | 喷涂 | 胶厚精度≤10%（适用于平面/凹凸面） |
| 光刻 | 精度 2um套准精度：0.15um | |
| 显影 | 精度2um显影均匀性<5% | |
| 蚀刻 | 尺寸散差 ±1um | |