技术规格 制程 能力及精度 光刻胶涂布 旋涂 胶厚精度≤3%（适用于平面） 光刻胶涂布 喷涂 胶厚精度≤10%（适用于平面/凹凸面） 光刻 精度 2um套准精度：0.15um 显影 精度2um显影均匀性<5% 蚀刻 尺寸散差 ±1um