光学镀膜工艺之反应蒸发镀膜

反应蒸发镀膜是在加热蒸发镀料的同时,向真空室充氧气(或氧离子),气相镀料在受热的基片表面与氧发生化学反应生成所需要的高价氧化物膜。
反应蒸发镀膜的原理是当金属氧化物受热蒸发时,分解为低价氧化物和金属分子,蒸发物气化分子在基片表面沉积,在成膜过程中受到氧分子(或氧离子)的作用,生成高价氧化物。显然,沉积过程越缓慢,基片温度越高,氧化过程也越充分。
用充氧反应蒸发镀膜可蒸镀氧化铋(Bi₂O₃)二氧化硅(SiO₂)二氧化钛(TiO₂)氧化铅(SnO₂)、二氧化锆(ZrO₂)、三氧化二铝(AL₂O₃)三氧化二钇(Y₂O₃)等。用氧离子反应蒸发镀膜可蒸镀二氧化钛(TiO₂)、一氧化硅(SiO)、多层 TiO₂-SiO₂。膜等。