光学镀膜工艺之激光加热蒸发镀膜

激光加热蒸发镀膜是利用激光照射镀料表面,镀料吸收激光光子能量转化为热能,并气化蒸发的方法。不同镀料吸收激光的波长不同,可根据镀料选用不同波段的激光照射。

激光加热蒸发镀膜的主要特点是激光能量高度集中,可使镀料(甚至极难熔材料)在极短时间内气化为具有高度化学活性的等离子体,适用于加热高熔点金属和化合物材料;采用非接触加热,蒸发源置于真空室外,既减少了污染,又简化了真空室,非常适合在高真空下准备高纯度薄膜,而且镀料的蒸发速率很高。缺点是费用比较高。

激光加热蒸发镀膜可用于多层电介质膜的镀制，如ZrO₂-SiO₂。和ZnS-MgF₂。等多层光学薄膜。